エキシマレーザドーピングによる半導体表面層の制御に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: エキシマレーザドーピングによる半導体表面層の制御に関する研究
• Title Transcription: エキシマ レーザ ドーピング ニ ヨル ハンドウタイ ヒョウメンソウ ノ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 杉岡幸次 [著]
• Author Heading: 杉岡, 幸次 スギオカ, コウジ ( 00980071 )Authorities
• Degree grantor/type: 早稲田大学
• Date Granted: 平成5年2月12日
• Date Granted (W3CDTF): 1993
• Dissertation Number: 乙第935号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-93-M171
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000261752; http://id.ndl.go.jp/bib/000000261752
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 従来の研究

1.2 エキシマレーザドーピングの原理と利点

1.3 本研究の目的