半導体素子製造工程におけるレジスト剥離技術の研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 半導体素子製造工程におけるレジスト剥離技術の研究
• Title Transcription: ハンドウタイ ソシ セイゾウ コウテイ ニ オケル レジスト ハクリ ギジュツ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 藤村修三 [著]
• Author Heading: 藤村, 修三, 1955- フジムラ, シュウゾウ, 1955- ( 00822700 )Authorities
• Degree grantor/type: 千葉大学
• Date Granted: 平成5年9月21日
• Date Granted (W3CDTF): 1993
• Dissertation Number: 乙第1423号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-93-T445
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000265167; http://id.ndl.go.jp/bib/000000265167
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序説

1.1 はじめに

1.2 半導体素子製造工程におけるレジスト剥離技術の現状と課題

1.3 本研究の目的