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博士論文

Study of growth modes and atomic depth distribution analysis of metals on Si(111) during epitaxial growth by total reflection angle X-ray spectroscopy

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Study of growth modes and atomic depth distribution analysis of metals on Si(111) during epitaxial growth by total reflection angle X-ray spectroscopy

Call No. (NDL)
UT51-94-N195
Bibliographic ID of National Diet Library
000000273185
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3095352
Material type
博士論文
Author
山中俊朗 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
東京大学,博士 (理学)
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博士論文

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Author/Editor
山中俊朗 [著]
Author Heading
山中, 俊朗 ヤマナカ, トシロウ
Alternative Title
全反射角X線分光によるSi(111)上の金属成長過程における成長モード元素の深さ分布の研究 ゼンハンシャカク Xセン ブンコウ ニ ヨル Si(111)ジョウ ノ キンゾク セイチョウ カテイ ニ オケル セイチョウ モード ゲンソ ノ フカサ ブンプ ノ ケンキュウ
Degree grantor/type
東京大学
Date Granted
平成5年3月29日
Date Granted (W3CDTF)
1993
Dissertation Number
甲第9865号
Degree Type
博士 (理学)