ULSIプロセスにおけるエッチング及びCVDの表面反応過程に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: ULSIプロセスにおけるエッチング及びCVDの表面反応過程に関する研究
• Title Transcription: ULSI プロセス ニ オケル エッチング オヨビ CVD ノ ヒョウメン ハンノウ カテイ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 坂上弘之 [著]
• Author Heading: 坂上, 弘之 サカウエ, ヒロユキ
• Degree grantor/type: 広島大学
• Date Granted: 平成5年5月13日
• Date Granted (W3CDTF): 1993
• Dissertation Number: 乙第2418号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-94-Z600
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000279356; http://id.ndl.go.jp/bib/000000279356
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序説

1.1 ULSIプロセスにおけるエッチングおよびCVD技術

1.2 表面反応研究の重要性

1.3 本研究の目的