Growth of extremely flat semiconductor and superconductor layers by liquid-phase epitaxy

• Material Type: 博士論文
• Title: Growth of extremely flat semiconductor and superconductor layers by liquid-phase epitaxy
• Author/Editor: Scheel, Hans J. [著]
• Author Heading: Scheel, Hans J シール, ハンス J
• Alternative Title: 液相エピタキシャル法による極めて平坦な半導体および超伝導体層の成長 エキソウ エピタキシャルホウ ニ ヨル キワメテ ヘイタンナ ハンドウタイ オヨビ チョウデンドウタイソウ ノ セイチョウ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成7年3月15日
• Date Granted (W3CDTF): 1995
• Dissertation Number: 乙第6699号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-95-C486
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000281129; http://id.ndl.go.jp/bib/000000281129
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

Chapter1:Introduction

1-1.Background.

1-2.Fundamental aspects of epitaxy.

1-3.Epitaxial growth modes.