Jump to main content
博士論文

(100)Si基板上のSi[1-x]Ge[x]膜の成長と電気的特性

Icons representing 博士論文
The cover of this title could differ from library to library. Link to Help Page

(100)Si基板上のSi[1-x]Ge[x]膜の成長と電気的特性

Call No. (NDL)
UT51-95-N409
Bibliographic ID of National Diet Library
000000286155
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3102339
Material type
博士論文
Author
林賢一 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
名古屋大学,博士 (工学)
View All

Notes on use

Note (General):

博士論文

Table of Contents

Provided by:国立国会図書館デジタルコレクションLink to Help Page
  • 目次

  • 1章 序論

    p1

  • 1.1 半導体の歴史的経緯

    p2

  • 1.2 [化学式]/Siヘテロ構造

    p5

  • 1.3 本研究の目的

    p10

Read in Disability Resources

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper Digital

Material Type
博士論文
Title Transcription
(100)Si キバンジョウ ノ Si1-xGexマク ノ セイチョウ ト デンキテキ トクセイ
Author/Editor
林賢一 [著]
Author Heading
林, 賢一 ハヤシ, ケンイチ
Degree grantor/type
名古屋大学
Date Granted
平成7年3月27日
Date Granted (W3CDTF)
1995
Dissertation Number
甲第3226号
Degree Type
博士 (工学)