光デバイス製作用ドライプロセス技術の研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 光デバイス製作用ドライプロセス技術の研究
• Title Transcription: ヒカリ デバイス セイサクヨウ ドライ プロセス ギジュツ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 武藤勝彦 [著]
• Author Heading: 武藤, 勝彦 ムトウ, カツヒコ
• Degree grantor/type: 筑波大学
• Date Granted: 平成4年7月31日
• Date Granted (W3CDTF): 1992
• Dissertation Number: 乙第807号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-95-Q441
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000287190; http://id.ndl.go.jp/bib/000000287190
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 本研究の背景と目的

1.2 本論文の構成とその内容

1.3 化合物半導体の反応性イオンビームエッチング技術の概要