Growth and characterization of polycrystalline silicon films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperatures

• Material Type: 博士論文
• Title: Growth and characterization of polycrystalline silicon films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperatures
• Author/Editor: Jayatissa, Ahalapitiya Hewage [著]
• Author Heading: Jayatissa, Ahalapitiya Hewage ジャヤテッサ, アハラピテヤ ヘワーゲ
• Alternative Title: プラズマ化学気相堆積による低温堆積多結晶シリコン薄膜の成長と評価 プラズマ カガク キソウ タイセキ ニ ヨル テイオン タイセキ タケッショウ シリコン ハクマク ノ セイチョウ ト ヒョウカ
• Degree grantor/type: 静岡大学
• Date Granted: 平成7年12月22日
• Date Granted (W3CDTF): 1995
• Dissertation Number: 甲第124号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-96-A156
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000292590; http://id.ndl.go.jp/bib/000000292590
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Abstract

Contents

Chapter1.Introduction

1.1 Overview

1.2 Motivation of the present research project