Studies on radicals in CHF[3] ECR etching plasma using spectroscopic techniques

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies on radicals in CHF[3] ECR etching plasma using spectroscopic techniques
• Author/Editor: 高橋邦方 [著]
• Author Heading: 高橋, 邦方 タカハシ, クニマサ
• Alternative Title: 分光法を用いたCHF[3]ECRエッチングプラズマにおけるラジカルに関する研究 ブンコウホウ オ モチイタ CHF3 ECR エッチング プラズマ ニ オケル ラジカル ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成8年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1996
• Dissertation Number: 甲第3466号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-96-G453
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000296158; http://id.ndl.go.jp/bib/000000296158
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

CONTENTS

CHAPTER1.INTRODUCTION

1.1 Electron Cyclotron Resonance(ECR)Plasma Etching

1.2 Problems in Previous Studies

1.3 Purpose and Composition of Dissertation