シリコン・ナノデバイス構築に向けたSiO[2]/Si界面物性制御の研究

• Material Type: 博士論文
• Title: シリコン・ナノデバイス構築に向けたSiO[2]/Si界面物性制御の研究
• Title Transcription: シリコン ナノデバイス コウチク ニ ムケタ SiO2 / Si カイメン ブッセイ セイギョ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 小野行徳 [著]
• Author Heading: 小野, 行徳 オノ, ユキノリ
• Degree grantor/type: 早稲田大学
• Date Granted: 平成8年2月8日
• Date Granted (W3CDTF): 1996
• Dissertation Number: 乙第1161号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-96-H515
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000296785; http://id.ndl.go.jp/bib/000000296785
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1-1 シリコン･ナノデバイス研究の現状

1-2 ナノデバイス材料としてのSiO₂/Si界面の重要性と課題

1-3 本研究の目的と本論文の構成