気相ドーピング法によるシリコン超浅拡散層形成技術とその応用に関する研究
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Table of Contents
目次
1.緒言
p1
1.1 背景
p1
1.2 浅接合形成技術の研究動向
p4
1.3 従来の接合形成技術の問題点
p8
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- キソウ ドーピングホウ ニ ヨル シリコン チョウセン カクサンソウ ケイセイ ギジュツ ト ソノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 清田幸弘 [著]
- Author Heading
- 清田, 幸弘 キヨタ, ユキヒロ
- Degree grantor/type
- 早稲田大学
- Date Granted
- 平成8年3月7日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1996
- Dissertation Number
- 乙第1182号
- Degree Type
- 博士 (工学)