Si-Ge系低温エピタキシャル成長と微細MOSテバイスの高性能化に関する研究
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Table of Contents
目次
第1章 序論
p1
1.1 本研究の背景
p1
1.2 本研究の目的
p3
参考文献
p4
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- Si-Geケイ テイオン エピタキシャル セイチョウ ト ビサイ MOS テバイス ノ コウセイノウカ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 後藤欣哉 [著]
- Author Heading
- 後藤, 欣哉 ゴトウ, キンヤ
- Degree grantor/type
- 東北大学
- Date Granted
- 平成8年3月26日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1996
- Dissertation Number
- 甲第5627号
- Degree Type
- 博士 (工学)