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博士論文

低エネルギイオン照射を用いた極薄シリコン酸化膜の低温形成に関する研究

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低エネルギイオン照射を用いた極薄シリコン酸化膜の低温形成に関する研究

Call No. (NDL)
UT51-96-N197
Bibliographic ID of National Diet Library
000000299198
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3114008
Material type
博士論文
Author
渡邉仁三 [著]
Publisher
-
Date granted
平成8年3月26日
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Degree grantor and degree
東北大学,博士 (工学)
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博士論文

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Table of Contents

Provided by：国立国会図書館デジタルコレクション

  • 目次

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 はじめに

    p1

  • 1.2 ト-タル低温化プロセス

    p3

  • 1.3 酸化プロセスの低温化

    p4

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title
低エネルギイオン照射を用いた極薄シリコン酸化膜の低温形成に関する研究
Title Transcription
テイエネルギ イオン ショウシャ オ モチイタ ゴクウス シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ
Author/Editor
渡邉仁三 [著]
Author Heading
渡邉, 仁三 ワタナベ, ジンゾウ
Degree Grantor
東北大学
Date Granted
平成8年3月26日
Date Granted (W3CDTF)
1996
Dissertation Number
甲第5634号
Degree Type
博士 (工学)