真空紫外光及び軟X線照射によるSi系材料の光励起プロセスに関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 真空紫外光及び軟X線照射によるSi系材料の光励起プロセスに関する研究
• Title Transcription: シンクウ シガイコウ オヨビ ナンXセン ショウシャ ニ ヨル Siケイ ザイリョウ ノ ヒカリ レイキ プロセス ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 高橋淳一 [著]
• Author Heading: 高橋, 淳一 タカハシ, ジュンイチ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成7年12月13日
• Date Granted (W3CDTF): 1995
• Dissertation Number: 乙第6834号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-96-N389
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000299390; http://id.ndl.go.jp/bib/000000299390
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

[目次]

第1章 序論

第2章 真空紫外光励起CVDによるSiO₂膜成長

2-1.SiO₂膜の光励起CVD

2-2.常圧下におけるHg共鳴線励起CVD