Jump to main content
博士論文

多結晶シリコンの低温成長および薄膜トランジスタへの応用に関する基礎的研究

Icons representing 博士論文
The cover of this title could differ from library to library. Link to Help Page

多結晶シリコンの低温成長および薄膜トランジスタへの応用に関する基礎的研究

Call No. (NDL)
UT51-96-P192
Bibliographic ID of National Diet Library
000000299744
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3114553
Material type
博士論文
Author
毛利幹雄 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
金沢大学,博士 (工学)
View All

Notes on use

Note (General):

博士論文

Table of Contents

Provided by:国立国会図書館デジタルコレクションLink to Help Page
  • 目次

  • 第1章 序論

    p1

  • 1.1 ポリシリコン研究開発の歴史

    p1

  • 1.2 ポリシリコンの低温成長

    p1

  • 1.3 Poly-SiTFTの開発の現状

    p4

Read in Disability Resources

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper Digital

Material Type
博士論文
Title Transcription
タケッショウ シリコン ノ テイオン セイチョウ オヨビ ハクマク トランジスタ エ ノ オウヨウ ニ カンスル キソテキ ケンキュウ
Author/Editor
毛利幹雄 [著]
Author Heading
毛利, 幹雄 モウリ, ミキオ
Degree grantor/type
金沢大学
Date Granted
平成7年9月26日
Date Granted (W3CDTF)
1995
Dissertation Number
乙第1443号
Degree Type
博士 (工学)