放射光励起シリコンガスソース分子線エピタキシーにおけるSi(100)表面上のSiH[n]の検出とSi膜形成機構

• Material Type: 博士論文
• Title: 放射光励起シリコンガスソース分子線エピタキシーにおけるSi(100)表面上のSiH[n]の検出とSi膜形成機構
• Title Transcription: ホウシャコウ レイキ シリコン ガス ソース ブンシセン エピタキシー ニ オケル Si(100) ヒョウメンジョウ ノ SiHn ノ ケンシュツ ト Siマク ケイセイ キコウ
• Author/Editor: 吉越章隆 [著]
• Author Heading: 吉越, 章隆 ヨシゴエ, アキタカ
• Degree grantor/type: 総合研究大学院大学
• Date Granted: 平成8年3月21日
• Date Granted (W3CDTF): 1996
• Dissertation Number: 甲第188号
• Degree Type: 博士 (理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-96-W470
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000303957; http://id.ndl.go.jp/bib/000000303957
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 研究の背景と概要

1.2 本研究の目的および概要

参考文献