An analytical study on surface oxidation mechanisms of metal nitride films by means of soft X-ray photoelectron and absorption spectroscopy

• Material Type: 博士論文
• Title: An analytical study on surface oxidation mechanisms of metal nitride films by means of soft X-ray photoelectron and absorption spectroscopy
• Author/Editor: 江坂文孝 [著]
• Author Heading: 江坂, 文孝 エサカ, フミタカ
• Alternative Title: 軟X線光電子分光法および軟X線吸収分光法による金属窒化物膜の表面酸化メカニズムに関する分析化学的研究 ナンXセン コウデンシ ブンコウホウ オヨビ ナンXセン キュウシュウ ブンコウホウ ニ ヨル キンゾク チッカブツマク ノ ヒョウメン サンカ メカニズム ニ カンスル ブンセキ カガクテキ ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東京理科大学
• Date Granted: 平成9年3月20日
• Date Granted (W3CDTF): 1997
• Dissertation Number: 甲第294号
• Degree Type: 博士 (理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-97-W374
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000316020; http://id.ndl.go.jp/bib/000000316020
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

CONTENTS

CHAPTER 1. INTRODUCTION

1-1.Metal nitrides

1-2.Previous studies on surface oxidation mechanisms of nitride films

1-3.Soft x-ray in the energy range of 200 - 1000 eV from synchrotron radiation as an excitation source