半導体素子製造工程における溶液洗浄処理後のシリコン表面の構造に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 半導体素子製造工程における溶液洗浄処理後のシリコン表面の構造に関する研究
• Title Transcription: ハンドウタイ ソシ セイゾウ コウテイ ニ オケル ヨウエキ センジョウ ショリゴ ノ シリコン ヒョウメン ノ コウゾウ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 小川洋輝 [著]
• Author Heading: 小川, 洋輝 オガワ, ヒロキ
• Degree grantor/type: 武蔵工業大学
• Date Granted: 平成9年9月18日
• Date Granted (W3CDTF): 1997
• Dissertation Number: 乙第38号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-97-X183
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000316373; http://id.ndl.go.jp/bib/000000316373
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 本論文の背景

1.2 溶液洗浄処理後のシリコン表面状態に関する研究の現状

1.3 本論文の目的と位置づけ