低エネルギー酸素イオン注入法を用いた単結晶Si-SiO[2]積層構造の作製と応用

• Material Type: 博士論文
• Title: 低エネルギー酸素イオン注入法を用いた単結晶Si-SiO[2]積層構造の作製と応用
• Title Transcription: テイエネルギー サンソ イオン チュウニュウホウ オ モチイタ タンケッショウ Si-SiO2 セキソウ コウゾウ ノ サクセイ ト オウヨウ
• Author/Editor: 谷由加里 [著]
• Author Heading: 谷, 由加里 タニ, ユカリ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成9年7月7日
• Date Granted (W3CDTF): 1997
• Dissertation Number: 乙第5255号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-98-A319
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000317479; http://id.ndl.go.jp/bib/000000317479
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

1.序論

1.1 研究のねらい

1.2 研究の背景

1.3 研究内容

2.実験方法