ハイブリッド励起CVD法によるシリコン窒化膜の研究
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Table of Contents
論文目録
目次
p1
第1章 序論
p4
1･1 液晶ディスプレイの可能性と課題
p4
1･2 シリコン上へのゲート絶縁膜用SiNx膜堆積の必要性
p5
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ハイブリッド レイキ CVDホウ ニ ヨル シリコン チッカマク ノ ケンキュウ
- Author/Editor
- 山本茂市 [著]
- Author Heading
- 山本, 茂市 ヤマモト, シゲイチ
- Degree grantor/type
- 東京工業大学
- Date Granted
- 平成9年2月28日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1997
- Dissertation Number
- 乙第3009号
- Degree Type
- 博士 (工学)