Studies on neutral and ionic radicals in electron cyclotron resonance silane plasma

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies on neutral and ionic radicals in electron cyclotron resonance silane plasma
• Author/Editor: 山本康雄 [著]
• Author Heading: 山本, 康雄 ヤマモト, ヤスオ
• Alternative Title: ECRシランプラズマ中の中性及びイオン性ラジカルに関する研究 ECR シラン プラズマチュウ ノ チュウセイ オヨビ イオンセイ ラジカル ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成10年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1998
• Dissertation Number: 甲第4058号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-98-L419
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000323034; http://id.ndl.go.jp/bib/000000323034
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

1 Introduction

1.1 Hydrogenated amorphous silicon thin films

1.2 Previous studies on radicals in silane plasma and formation mechanism of a-Si:H thin film

1.3 Purpose and composition of this thesis