超LSI製造工程における酸化絶縁膜の超微細加工及びそのドライエッチング機構に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 超LSI製造工程における酸化絶縁膜の超微細加工及びそのドライエッチング機構に関する研究
• Title Transcription: チョウLSI セイゾウ コウテイ ニ オケル サンカ ゼツエンマク ノ チョウビサイ カコウ オヨビ ソノ ドライ エッチング キコウ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 池上尚克 [著]
• Author Heading: 池上, 尚克 イケガミ, ナオカツ
• Degree grantor/type: 慶應義塾大学
• Date Granted: 平成10年9月17日
• Date Granted (W3CDTF): 1998
• Dissertation Number: 乙第3216号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-98-Z464
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000330548; http://id.ndl.go.jp/bib/000000330548
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文目録

目次

第1章 序論

1.1 超LSI開発における本研究の役割と意義

1.2 本研究の目的