低エネルギイオン照射を用いた低温シリコン薄膜形成プロセスの研究
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Table of Contents
目次
p1
第1章 序論
p1
1.1 固体電子工学の発展
p1
1.2 結晶成長の低温化と低エネルギイオン照射プロセス
p2
1.3 インライン欠陥検査を用いた歩留り管理
p4
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- テイエネルギ イオン ショウシャ オ モチイタ テイオン シリコン ハクマク ケイセイ プロセス ノ ケンキュウ
- Author/Editor
- 進藤亘 [著]
- Author Heading
- 進藤, 亘 シンドウ, ワタル
- Degree grantor/type
- 東北大学
- Date Granted
- 平成11年3月25日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1999
- Dissertation Number
- 甲第6907号
- Degree Type
- 博士(工学)