Study of molecular beam epitaxy processes of compound semiconductors by reflectance difference spectroscopy and reflection high energy electron diffraction

• Material Type: 博士論文
• Title: Study of molecular beam epitaxy processes of compound semiconductors by reflectance difference spectroscopy and reflection high energy electron diffraction
• Author/Editor: 鄭炫墩 [著]
• Author Heading: 鄭, 炫墩 チョン, ヒョンドン
• Alternative Title: 反射差分光法と高速電子線折法による化合物半導体の分子線エピタキシ過程の研究 ハンシャサ ブンコウホウ ト コウソク デンシセン セツホウ ニ ヨル カゴウブツ ハンドウタイ ノ ブンシセン エピタキシ カテイ ノ ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成11年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 甲第6930号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Alias of Author: Jung, Hyun Don
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-H353
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000335263; http://id.ndl.go.jp/bib/000000335263
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Table of contents

Abstract of Dissertation

Chapter 1 Introduction

1.1 Reflectance Difference Spectroscopy

1.2 RDS as an in-situ analysis tool