誘導結合型水素プラズマによりシリコン酸化膜に導入される損傷に関する基礎的研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 誘導結合型水素プラズマによりシリコン酸化膜に導入される損傷に関する基礎的研究
• Title Transcription: ユウドウ ケツゴウガタ スイソ プラズマ ニ ヨリ シリコン サンカマク ニ ドウニュウサレル ソンショウ ニ カンスル キソテキ ケンキュウ
• Author/Editor: 池田晃裕 [著]
• Author Heading: 池田, 晃裕 イケダ, アキヒロ
• Degree grantor/type: 九州大学
• Date Granted: 平成11年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 甲第4805号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-J474
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000336095; http://id.ndl.go.jp/bib/000000336095
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 水素プラズマのLSI洗浄プロセスへの応用

1.2 高密度水素プラズマの照射によるデバイスへのダメージの導入

1.3 本研究の目的