イオン照射による酸化膜上へのCoSi2形成とその細線加工応用に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: イオン照射による酸化膜上へのCoSi2形成とその細線加工応用に関する研究
• Title Transcription: イオン ショウシャ ニ ヨル サンカマクジョウ エ ノ CoSi2 ケイセイ ト ソノ サイセン カコウ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 松下篤志 [著]
• Author Heading: 松下, 篤志 マツシタ, アツシ
• Degree grantor/type: 九州大学
• Date Granted: 平成11年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 甲第4807号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-J476
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000336097; http://id.ndl.go.jp/bib/000000336097
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 研究の背景と目的

1.2 本論文の構成と要旨

第2章 酸化膜上へのCoSi₂形成におけるイオン照射の効果