スパッタ法による超LSI多層配線用Al系合金薄膜の形成技術に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: スパッタ法による超LSI多層配線用Al系合金薄膜の形成技術に関する研究
• Title Transcription: スパッタホウ ニ ヨル チョウLSI タソウ ハイセンヨウ Alケイ ゴウキン ハクマク ノ ケイセイ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 鴨志田和良 [著]
• Author Heading: 鴨志田, 和良 カモシダ, カズヨシ
• Degree grantor/type: 北海道大学
• Date Granted: 平成11年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 乙第5459号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-K586
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000336810; http://id.ndl.go.jp/bib/000000336810
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 研究の主旨

1.2 研究の背景

1.3 従来技術の問題点と本研究の目的