半導体デバイスの低温・低圧成長プロセスと低温ドーピングプロセスに関する基礎的研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 半導体デバイスの低温・低圧成長プロセスと低温ドーピングプロセスに関する基礎的研究
• Title Transcription: ハンドウタイ デバイス ノ テイオン テイアツ セイチョウ プロセス ト テイオン ドーピング プロセス ニ カンスル キソテキ ケンキュウ
• Author/Editor: 藤本博 [著]
• Author Heading: 藤本, 博 フジモト, ヒロシ
• Degree grantor/type: 大同工業大学
• Date Granted: 平成11年3月18日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 乙第2号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-M2
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000337452; http://id.ndl.go.jp/bib/000000337452
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 MOCVD法によるII-VI族化合物半導体の研究の現状

1.2 電子ビーム照射技術の現状

1.3 本研究の背景と目的