LSI多層配線における低誘電率層間絶縁膜に関する研究
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Table of Contents
目次
第1章 序論
p1
1.1 本研究の背景
p1
1.2 LSIにおける多層配線技術とその高性能化の課題
p2
1.3 低誘電率層間絶縁膜の必要性とその課題
p5
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- LSI タソウ ハイセン ニ オケル テイユウデンリツソウカン ゼツエンマク ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 遠藤和彦 [著]
- Author Heading
- 遠藤, 和彦 エンドウ, カズヒコ
- Degree grantor/type
- 早稲田大学
- Date Granted
- 平成11年3月4日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1999
- Dissertation Number
- 乙第1443号
- Degree Type
- 博士(工学)