YBa[2]Cu[4]O[8]酸化物超電導体のスパッタリング法とその場アニールによる薄膜成長の研究

• Material Type: 博士論文
• Title: YBa[2]Cu[4]O[8]酸化物超電導体のスパッタリング法とその場アニールによる薄膜成長の研究
• Title Transcription: YBa2Cu4O8 サンカブツ チョウデンドウタイ ノ スパッタリングホウ ト ソノバ アニール ニ ヨル ハクマク セイチョウ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 吉田幸久 [著]
• Author Heading: 吉田, 幸久 ヨシダ, ユキヒサ
• Degree grantor/type: 早稲田大学
• Date Granted: 平成11年3月4日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 乙第1462号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-M601
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000338051; http://id.ndl.go.jp/bib/000000338051
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 本研究の背景

1.2 本研究の目的と意義

1.3 本論文の構成