TEOS/O[3]系常圧熱CVDによるSiO[2]初期成膜過程に関する研究
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Table of Contents
目次
p1
序章 本論文の概要と構成
p1
1.序論
p1
2.本論文の構成
p1
第1章 本研究の背景と問題提起
p3
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- TEOS/O3ケイ ジョウアツ ネツ CVD ニ ヨル SiO2 ショキ セイマク カテイ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 石川政彦 [著]
- Author Heading
- 石川, 政彦 イシカワ, マサヒコ
- Degree grantor/type
- 東京大学
- Date Granted
- 平成9年12月12日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1997
- Dissertation Number
- 甲第13062号
- Degree Type
- 博士 (工学)