A study of reactive ion beam etching process for optoelectronic micro-devices
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Table of Contents
論文目録
Chapter 1 Introduction
p1
1.1 Background and History of Dry Etching Process
p1
1.2 Problems in Dry Etching for Microstructure Optoelectronic Devices
p3
1.3 Objective of This Study
p5
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Author/Editor
- 松谷晃宏 [著]
- Author Heading
- 松谷, 晃宏 マツタニ, アキヒロ
- Extent
- 冊
- Alternative Title
- 極微光デバイス製作のための反応性イオンビームエッチングに関する研究 ゴク ビコウ デバイス セイサク ノ タメ ノ ハンノウセイ イオン ビーム エッチング ニ カンスル ケンキュウ
- Degree grantor/type
- 東京工業大学
- Date Granted
- 平成11年2月28日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1999
- Dissertation Number
- 乙第3270号