A study of reactive ion beam etching process for optoelectronic micro-devices

• Material Type: 博士論文
• Title: A study of reactive ion beam etching process for optoelectronic micro-devices
• Author/Editor: 松谷晃宏 [著]
• Author Heading: 松谷, 晃宏 マツタニ, アキヒロ
• Extent: 冊
• Alternative Title: 極微光デバイス製作のための反応性イオンビームエッチングに関する研究 ゴク ビコウ デバイス セイサク ノ タメ ノ ハンノウセイ イオン ビーム エッチング ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東京工業大学
• Date Granted: 平成11年2月28日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 乙第3270号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-99-Y446
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000346490; http://id.ndl.go.jp/bib/000000346490
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文目録

Chapter 1 Introduction

1.1 Background and History of Dry Etching Process

1.2 Problems in Dry Etching for Microstructure Optoelectronic Devices

1.3 Objective of This Study