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博士論文

電流ストレスにより生じるシリコン熱酸化膜劣化現象と劣化機構に関する研究

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電流ストレスにより生じるシリコン熱酸化膜劣化現象と劣化機構に関する研究

Call No. (NDL)
UT51-99-Z195
Bibliographic ID of National Diet Library
000000347086
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3161893
Material type
博士論文
Author
榊原清彦 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
大阪大学,博士 (工学)
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博士論文

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  • 目次

    p1

  • 第1章 序論

    p5

  • 1.1 本研究の背景と目的

    p5

  • 1.2 トラップの性質と酸化膜劣化機構に関する研究の現状

    p6

  • 1.3 本研究の概要

    p12

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title
電流ストレスにより生じるシリコン熱酸化膜劣化現象と劣化機構に関する研究
Title Transcription
デンリュウ ストレス ニ ヨリ ショウジル シリコン ネツ サンカマク レッカ ゲンショウ ト レッカ キコウ ニ カンスル ケンキュウ
Author/Editor
榊原清彦 [著]
Author Heading
榊原, 清彦 サカキバラ, キヨヒコ
Extent
冊
Degree grantor/type
大阪大学
Date Granted
平成11年9月22日
Date Granted (W3CDTF)
1999
Dissertation Number
乙第7845号