ウェットプロセスによる鉄基アモルファス合金薄膜の形成とマイクロ磁気弾性デバイスへの応用
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国立国会図書館デジタルコレクション
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Table of Contents
論文要旨
目次
p1
第1章 序論
p1
§1.1 本研究の背景と目的
p1
§1.2 本研究の概要と論文の構成
p10
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ウェットプロセス ニ ヨル テッキ アモルファス ゴウキン ハクマク ノ ケイセイ ト マイクロ ジキ ダンセイ デバイス エ ノ オウヨウ
- Author/Editor
- 藤田直幸 [著]
- Author Heading
- 藤田, 直幸 フジタ, ナオユキ
- Extent
- 冊
- Degree grantor/type
- 豊橋技術科学大学
- Date Granted
- 平成11年12月15日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1999
- Dissertation Number
- 乙第132号