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二酸化シリコン薄膜の低温プラズマCVDにおける分光学的プロセス診断に関する研究

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国立国会図書館デジタルコレクション

二酸化シリコン薄膜の低温プラズマCVDにおける分光学的プロセス診断に関する研究

Call No. (NDL)
UT51-2000-D397
Bibliographic ID of National Diet Library
000000350709
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/3165516
Material type
博士論文
Author
井上泰志 [著]
Publisher
-
Publication date
-
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
-
Name of awarding university/degree
名古屋大学,博士 (工学)
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博士論文

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Table of Contents

  • 目次

    p1

  • 1 序論

    p6

  • 1.1 研究の背景

    p6

  • 1.2 本研究の目的

    p13

  • 1.3 本論文の構成

    p13

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Paper Digital

Material Type
博士論文
Title
二酸化シリコン薄膜の低温プラズマCVDにおける分光学的プロセス診断に関する研究
Author/Editor
井上泰志 [著]
Author Heading
井上泰志 イノウエ, ヤスシ
Extent
冊
Additional Title
二酸化 シリコン 薄膜 低温 プラズマ CVD 分光学的 プロセス 診断
Degree grantor/type
名古屋大学
Date Granted
平成12年2月29日
Date Granted (W3CDTF)
2000
Dissertation Number
乙第5707号