Studies for below 0.25μm lithography substrate effect of chemically amplified resist and top surface imaging process

• Material Type: 博士論文
• Title: Studies for below 0.25μm lithography substrate effect of chemically amplified resist and top surface imaging process
• Author/Editor: 森重恭 [著]
• Author Heading: 森, 重恭 モリ, シゲヤス
• Alternative Title: 0.25μm以細のリソグラフィに関する研究 化学増幅型レジストの基板依存性及び表層イメージングプロセス 0.25マイクロメートル イサイ ノ リソグラフィ ニ カンスル ケンキュウ カガク ゾウフクガタ レジスト ノ キバン イソンセイ オヨビ ヒョウソウ イメージング プロセス
• Degree grantor/type: 千葉大学
• Date Granted: 平成12年3月14日
• Date Granted (W3CDTF): 2000
• Dissertation Number: 乙第2110号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2000-E189
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000351482; http://id.ndl.go.jp/bib/000000351482
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

General Introduction

1.Introduction

2.Substrate Effect of Chemically Amplified Resist

3.Top Surface Imaging Process