シリコンナノエンジニアリングの基礎としての表面構造自己組織化に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: シリコンナノエンジニアリングの基礎としての表面構造自己組織化に関する研究
• Title Transcription: シリコン ナノエンジニアリング ノ キソ ト シテ ノ ヒョウメン コウゾウ ジコ ソシキカ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 嶋田一義 [著]
• Author Heading: 嶋田, 一義 シマダ, カズヨシ
• Degree grantor/type: 早稲田大学
• Date Granted: 平成12年3月2日
• Date Granted (W3CDTF): 2000
• Dissertation Number: 甲第1436号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2000-F562
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000352803; http://id.ndl.go.jp/bib/000000352803
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 本研究の背景及び目的

1.2 本研究の概要

第2章 イオン照射による表面改質がDAS構造自己組織化に及ぼす影響の解明