レーザーアブレーションによる鉄シリサイド薄膜の作製及びその諸特性に関する基礎研究
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Table of Contents
論文要旨
p1
目次
第1章 序論
p1
§1.1 レーザーアブレーションによる薄膜の作製とその特徴
p1
§1.2 鉄シリサイド薄膜-環境半導体
p4
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- レーザー アブレーション ニ ヨル テツ シリサイド ハクマク ノ サクセイ オヨビ ソノ ショトクセイ ニ カンスル キソ ケンキュウ
- Author/Editor
- 劉正新 [著]
- Author Heading
- 劉, 正新 リュウ, セイシン
- Degree grantor/type
- 豊橋技術科学大学
- Date Granted
- 平成12年3月22日
- Date Granted (W3CDTF)
- 2000
- Dissertation Number
- 甲第263号
- Degree Type
- 博士 (工学)