Metal-Nitride-Oxide-Si構造の絶縁膜中電荷分布および放射線照射効果に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: Metal-Nitride-Oxide-Si構造の絶縁膜中電荷分布および放射線照射効果に関する研究
• Title Transcription: Metal-Nitride-Oxide-Si コウゾウ ノ ゼツエンマクチュウ デンカ ブンプ オヨビ ホウシャセン ショウシャ コウカ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 高橋芳浩 [著]
• Author Heading: 高橋, 芳浩 タカハシ, ヨシヒロ
• Degree grantor/type: 日本大学
• Date Granted: 平成12年7月3日
• Date Granted (W3CDTF): 2000
• Dissertation Number: 乙第5695号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2000-L772
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000357858; http://id.ndl.go.jp/bib/000000357858
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 研究背景

1.2 研究目的

1.3 本論文の構成