Oxide-Free Surface Passivation of InP and Related Materials Using Silicon Interface Control Layers and Its Application

• Material Type: 博士論文
• Title: Oxide-Free Surface Passivation of InP and Related Materials Using Silicon Interface Control Layers and Its Application
• Author/Editor: Hiroshi Takahashi [著]
• Author Heading: 高橋, 浩 タカハシ, ヒロシ
• Publication, Distribution, etc.: [Hiroshi Takahashi]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Alternative Title: シリコン界面制御層を用いたインジウムリンおよび関連材料の酸化物フリー表面パッシベーションとその応用 シリコン カイメン セイギョソウ オ モチイタ インジウム リン オヨビ カンレン ザイリョウ ノ サンカブツ フリー ヒョウメン パッシベーション ト ソノ オウヨウ
• Degree grantor/type: 北海道大学
• Date Granted: 平成13年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第5525号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-E683
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000399959; http://id.ndl.go.jp/bib/000000399959
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Chapter1 Introduction

1.1 Historical Background

1.2 Objective

1.3 Synopsis of each chapter

References