シロキサン被覆フッ化物によるbis-GMA/TEGDMA系レジンからのフッ素徐放制御に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: シロキサン被覆フッ化物によるbis-GMA/TEGDMA系レジンからのフッ素徐放制御に関する研究
• Title Transcription: シロキサン ヒフク フッカブツ ニ ヨル bis - GMA / TEGDMAケイ レジン カラ ノ フッソ ジョホウ セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 仲保聡 [著]
• Author Heading: 仲保, 聡 ナカボ, サトシ
• Publication, Distribution, etc.: [仲保聡]
• Publication Date: [2001]
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 2冊
• Alternative Title: Studies on the regulation of fluoride release from bis-GMA/TEGDMA resin based on siloxane layer coating of fluoride additives
• Degree grantor/type: 岡山大学
• Date Granted: 平成13年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第2166号
• Degree Type: 博士 (歯学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-E260
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000400042; http://id.ndl.go.jp/bib/000000400042
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

緒言

実験1:アルコキシシラン処理によるフッ化物表層への皮膜形成と処理フッ化物の物性解析

材料および方法

結果