Maskless Selective Epitaxy of 3-5 Semiconductors by Using a Low Energy Focused Ion Beam

• Material Type: 博士論文
• Title: Maskless Selective Epitaxy of 3-5 Semiconductors by Using a Low Energy Focused Ion Beam
• Author/Editor: Cho Dong-hyun [著]
• Author Heading: 曹, 東鉉 チョウ, ドンヒョン
• Publication, Distribution, etc.: [Cho Dong-hyun]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 低エネルギー集束イオンビームを用いた3-5族化合物半導体のマスクレス選択成長に関する研究 テイエネルギー シュウソク イオン ビーム オ モチイタ 3 - 5ゾク カゴウブツ ハンドウタイ ノ マスクレス センタク セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 豊橋技術科学大学
• Date Granted: 平成13年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第290号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-G640
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000401494; http://id.ndl.go.jp/bib/000000401494
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文要旨

CONTENTS

Chapter 1.Focused ion beam technology and application

1.1 Introduction

1.2 Maskless selective deposition using low energy focused ion beam