リモートプラズマCVD法による有機シリコン原料を用いたシリコン系薄膜形成過程の研究

• Material Type: 博士論文
• Title: リモートプラズマCVD法による有機シリコン原料を用いたシリコン系薄膜形成過程の研究
• Title Transcription: リモート プラズマ CVDホウ ニ ヨル ユウキ シリコン ゲンリョウ オ モチイタ シリコンケイ ハクマク ケイセイ カテイ ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 徐應瑜 [著]
• Author Heading: 徐, 應瑜 ジョ, インユ
• Publication, Distribution, etc.: [徐應瑜]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Degree grantor/type: 静岡大学
• Date Granted: 平成13年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第252号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-J15
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000404024; http://id.ndl.go.jp/bib/000000404024
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

概要

第1章 序論

1.1 化学気相堆積法CVDの背景

1.2 リモートプラズマCVDの背景