埋め込み金属層基板-赤外反射吸収分光法によるシリコン表面水素化物の構造と化学反応性に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 埋め込み金属層基板-赤外反射吸収分光法によるシリコン表面水素化物の構造と化学反応性に関する研究
• Title Transcription: ウメコミ キンゾクソウ キバン - セキガイ ハンシャ キュウシュウ ブンコウホウ ニ ヨル シリコン ヒョウメン スイソカブツ ノ コウゾウ ト カガク ハンノウセイ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 野田英之 [著]
• Author Heading: 野田, 英之 ノダ, ヒデユキ
• Publication, Distribution, etc.: [野田英之]
• Publication Date: [2001]
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Degree grantor/type: 総合研究大学院大学
• Date Granted: 平成13年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第511号
• Degree Type: 博士 (理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-L545
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000406419; http://id.ndl.go.jp/bib/000000406419
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

博士論文の要旨

目次

第1章 序論

1.1 本研究の背景と目的

1.2 水素吸着Si表面に関するこれまでの知見