微細LSI製造プロセスのための高精度数値モデルの研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 微細LSI製造プロセスのための高精度数値モデルの研究
• Title Transcription: ビサイ LSI セイゾウ プロセス ノ タメ ノ コウセイド スウチ モデル ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 佐藤久子 [著]
• Author Heading: 佐藤, 久子 サトウ, ヒサコ
• Publication, Distribution, etc.: [佐藤久子]
• Publication Date: 1999
• Publication Date (W3CDTF): 1999
• Extent: 1冊
• Alternative Title: Study on numerical model with high accuracy for manufacturing sub-micron LSI process
• Degree grantor/type: 東京大学
• Date Granted: 平成11年9月21日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 乙第14447号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-R177
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000414053; http://id.ndl.go.jp/bib/000000414053
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

1.緒論

1.1 緒言

1.2 背景

1.3 論文構成