TICSをCVD原料に用いたポーラスシリカ膜の形成法

• Material Type: 博士論文
• Title: TICSをCVD原料に用いたポーラスシリカ膜の形成法
• Title Transcription: TICS オ CDV ゲンリョウ ニ モチイタ ポーラスシリカマク ノ ケイセイホウ
• Author/Editor: 藤本明 [著]
• Author Heading: 藤本, 明 フジモト, アキラ
• Publication, Distribution, etc.: [藤本明]
• Publication Date: 2001
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Degree grantor/type: 東京工業大学
• Date Granted: 平成13年3月26日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第4683号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-S170
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000415500; http://id.ndl.go.jp/bib/000000415500
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

論文目録

第1章 序論

1.1 はじめに

1.2 ULSIのスケーリング則と配線遅延

1.3 低誘電率膜