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半導体プロセス用特殊材料ガスの物理・化学 : Proceeding [1] (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第15回)

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半導体プロセス用特殊材料ガスの物理・化学 : Proceeding. [1](超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第15回)

Call No. (NDL)
ND371-E154
Bibliographic ID of National Diet Library
000002272852
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/13649468
Material type
図書
Author
UCS半導体基盤技術研究会 編
Publisher
UCS半導体基盤技術研究会
Publication date
1991.11
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
202p ; 30cm
NDC
549.8
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Notes on use

Note (General):

英語書名: Physics and chemistry of speciality gases for advanced semiconductor processings 英文併載付 (6枚)期日・会場: 1991年11月29日・30日 農協ホール

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Paper Digital

Material Type
図書
Title Transcription
ハンドウタイ プロセスヨウ トクシュ ザイリョウ ガス ノ ブツリ カガク
Volume
[1]
Author/Editor
UCS半導体基盤技術研究会 編
Author Heading
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
1991.11
Publication Date (W3CDTF)
1991