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超精密洗浄技術-ULSI用洗浄からフロン代替洗浄まで : Proceeding (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; no.3)

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国立国会図書館デジタルコレクション

超精密洗浄技術-ULSI用洗浄からフロン代替洗浄まで : Proceeding(超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; no.3)

Call No. (NDL)
ND386-E223
Bibliographic ID of National Diet Library
000002291717
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/13649718
Material type
図書
Author
半導体基盤技術研究会 編
Publisher
半導体基盤技術研究会
Publication date
1990.1
Material Format
Paper・Digital
Capacity, size, etc.
35p ; 30cm
NDC
549.7
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Notes on use

Note (General)：

英語書名: High-precision cleaning technology water cleaning process for ULSI manufacturing to a substitute for frecn cleaning 英文併記期日・会場: 平成2年1月27日 全電通ホール

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Paper Digital

Material Type
図書
Title
超精密洗浄技術-ULSI用洗浄からフロン代替洗浄まで : Proceeding
Title Transcription
チョウ セイミツ センジョウ ギジュツ ユーエルエスアイヨウ センジョウ カラ フロン ダイタイ センジョウ マデ
Author/Editor
半導体基盤技術研究会 編
Series Title
超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; no.3
Author Heading
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
東京 : 半導体基盤技術研究会
Publication Date
1990.1
Publication Date (W3CDTF)
1990
Extent
35p