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図書

半導体内部に金属領域を有する超高速集積回路の研究

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半導体内部に金属領域を有する超高速集積回路の研究

Call No. (NDL)
Y151-H02402031
Bibliographic ID of National Diet Library
000006977507
Material type
図書
Author
大見, 忠弘, 東北大学
Publisher
-
Publication date
1990-1991
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ハンドウタイ ナイブ ニ キンゾク リョウイキ オ ユウスル チョウコウソク シュウセキ カイロ ノ ケンキュウ
Author/Editor
大見, 忠弘, 東北大学
Author Heading
大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
Publication Date
1990-1991
Publication Date (W3CDTF)
1990
Extent
Additional Title
研究種目 一般研究(A)
Subject Heading
メタルゲート自己整合MOSFET メタルゲートジコセイゴウMOSFET
イオン注入層低温アニール イオンチユウニユウソウテイオンアニール
Cu配線技術 CUハイセンギジユツ
超高速配線 チヨウコウソクハイセン
エレクトロマイグレーシヨン エレクトロマイグレーシヨン
低エネルギイオン照射プロセス テイエネルギイオンシヨウシヤプロセス
NON ALLOYING CONTACT NONALLOYINGCONTACT