全エピタキシヤル金属/絶縁体積層構造形成とデバイスの研究

• Material Type: 図書
• Title: 全エピタキシヤル金属/絶縁体積層構造形成とデバイスの研究
• Title Transcription: ゼン エピタキシヤル キンゾク/ゼツエン タイセキソウ コウゾウ ケイセイ ト デバイス ノ ケンキュウ
• Author/Editor: 山田, 公, 京都大学
• Author Heading: 山田, 公 ヤマダ, イサオ
• Publication Date: 1992-1994
• Publication Date (W3CDTF): 1992
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 一般研究(B)
• Subject Heading: ICB ICB; エピタキシヤル成長 エピタキシヤルセイチヨウ; 真空一貫プロセス シンクウイツカンプロセス; A1/A12O3積層構造 A1/A12O3セキソウコウゾウ; 量子効果デバイス リヨウシコウカデバイス; 共鳴トンネルデバイス キヨウメイトンネルデバイス; トンネル電流 トンネルデンリユウ
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 04452202
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H04452202
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000006986163; http://id.ndl.go.jp/bib/000006986163
• Bibliographic Record Category (NDL): 214